Micro LED Display显示原理


Micro LED Display显示原理
显示原理比较
Micro LED Display的显示原理,系将LED结构设计进行薄膜化、微小化、数组化,其尺寸仅在1~10μm等级左右;后将μLED批量式转移至电路基板上(含下电极与晶体管),其基板可为硬性、软性之透明、不透明基板上;再利用物理沈积制程完成保护层与上电极,即可进行上基板的封装,完成一结构简单的Micro LED Display。

μLED典型结构是一PN接面二极管,由直接能隙半导体材料构成。当上下电极施加一顺向偏压于μLED,致使电流通过时,电子、电洞对于主动区(Active region) 复合,而发射出单一色光。μLED发光频谱其主波长的半高全宽FWHM仅约20nm,可提供极高的色饱和度,通常可大于120%NTSC。

且自2008年后LED光电转换效率大幅提高,100 lm/W以上的LED已成量产之标准。而在Micro LED Display的应用上,为自发光的显示特性,辅以几乎无光耗组件的简易结构,故可轻易达到低能耗(10%~20% TFT-LCD能耗) 或高亮度(1000nits以上) 的显示器设计。即可解决目前显示器应用的两大问题,一是穿戴型装置、手机、平板等设备,有8成以上的能耗在于显示器上,低能耗的显示器技术可提供更长的电池续航力;一是环境光较强(例:户外、半户外)致使显示器上的影像泛白、辨识度变差的问题,高亮度的显示技术可使其应用的范畴更加宽广。